RF-sputtering i laser CO2 jako narzędzia do precyzyjnej modyfikacji struktur optycznych
05.202528
dr inż. Tomasz Ragiń
KFEiTŚ, WE-306, 10:15
Nowoczesne technologie wytwarzania struktur fotonicznych wymagają precyzyjnej kontroli mikrostruktury materiałów. RF-sputtering pozwala na osadzanie cienkich warstw amorficznych, które stanowią bazę dla dalszej obróbki. Kolejnym kluczowym etapem jest laserowa nanokrystalizacja CO2, umożliwiająca lokalne wytworzenie fazy krystalicznej w obrębie osadzonych warstw. Taki proces pozwala na uzyskanie optymalnych właściwości optycznych i luminescencyjnych, co jest istotne w zastosowaniach mikrolaserowych i systemach detekcji optycznej w zakresie podczerwonym.
Podziel się:
×
W ramach naszego serwisu www stosujemy pliki cookies zapisywane na urządzeniu użytkownika w celu dostosowania zachowania serwisu do indywidualnych preferencji użytkownika oraz w celach statystycznych. Użytkownik ma możliwość samodzielnej zmiany ustawień dotyczących cookies w swojej przeglądarce internetowej. Więcej informacji można znaleźć w Polityce Prywatności Korzystając ze strony wyrażają Państwo zgodę na używanie plików cookies, zgodnie z ustawieniami przeglądarki. Akceptuję Politykę prywatności i wykorzystania plików cookies w serwisie.