KFEiTŚ, WE-306, 10:15
Badania nad cienkimi warstwami amorficznymi, otrzymywanymi przy wykorzystaniu metody RF-sputtering, są ukierunkowane na ich potencjalne zastosowania w strukturach fotonicznych. Metoda RF-sputtering umożliwia precyzyjne osadzanie warstw, co prowadzi do uzyskania wyjątkowych właściwości strukturalnych i optycznych. Wyniki badań wykazują obiecujące cechy, takie jak wysoka homogeniczność, co czyni te warstwy atrakcyjnymi dla zastosowań, takich jak falowody oparte na cienkich warstwach amorficznych. Analiza wskazuje również na zdolność do domieszkowania jonami ziem rzadkich i efektywnej manipulacji światłem, otwierając nowe perspektywy dla praktycznego wykorzystania ich w zaawansowanych technologiach komunikacyjnych oraz sensorach optycznych. Prezentacja będzie dotyczyć zatem zarówno metody RF-sputtering, jak i potencjalnych zastosowaniach cienkich warstw amorficznych w nowoczesnych technologiach.